上海微电子突破28nm对华为帮助有多大,中华有为

日期:2020-06-16 21:29:53

上海微电子设备有限公司近日透露,将在2021-2022年交付首台国产28nm工艺浸没式光刻机。国产光刻机从以前的90nm突破到28nm,不仅为上海微电子设备打开了市场空间,也为该公司的上市打开了资本市场的想象空间。

上海微电子设备有限公司成立于2002年。与尼康,ASML等以前的产品相比,它属于光刻机的小厂家。 2009年,该公司推出了首款分辨率为2微米的光刻产品SSB500 / 10A。 2018年3月,公司的SSA600 / 20光刻机通过验收,公司的光刻机分辨率提高到90nm。直到最近才披露,第一台采用28nm工艺的家用浸没式光刻机才会在2021-2022年交付。

有网友认为,台积电已经进入了新的5nm芯片时代,三星也在计划5nm生产线,中国最强的芯片代工巨头中芯国际也进入了14nm芯片时代。但实际上,我们拥有这些芯片可以看到,工艺数的确与光刻机的精度有关,但实际上,上海微电子制造的第一台28nm工艺光刻机使用的是华卓晶科,精度更高。经过阶段(1.7nm),经过多次曝光后,它可以还实现了7nm工艺技术的芯片生产。看到这一点,您可能已经完全了解,一旦家用光刻机可以生产7nm芯片,就意味着我们整个国内的芯片制造产业链不再需要看ASML的面目,也不必担心ASML的光刻设备供应。

许多网友认为,如果28nm光刻机投入批量生产,就可以为华为生产高端芯片。如果有这样的想法,那就是网友想多了。尽管28纳米光刻机与当前的ASML7纳米光技术之间仍然存在很大差距,但28纳米光刻机通过工艺改进和多次曝光后可以生产出比28纳米工艺更高的芯片。是的,通过改进工艺,可以使用28纳米光刻机生产14纳米,12纳米甚至7纳米芯片。

虽然即将国产28纳米光刻机,但据说可以通过多次曝光工艺来实现14纳米或7纳米的芯片制造。但是大规模生产几乎是不可能的。中芯国际使用荷兰ASML的DUV 14纳米光刻机。目前,“ N + 1”和“ N + 2”工艺无法实现7纳米芯片的批量生产,因此基于工艺和成本的28纳米光刻机很难实现芯片的制造。较低的制造工艺。如果用28纳米的光刻机生产7纳米的芯片,需要曝光次数增加到几百次才能实现,生产效率会降低几百倍,材料消耗也提高几百倍。所以,28纳米光刻机量产7纳米芯片不现实。最多只能实现小批量的生产应急。

光刻机将完全解决我国国防工业芯片领域的自主权问题。 28nm制程光刻机是重要的稳定性节点。两次曝光后,机器可以生产14纳米的芯片。当然,成本和报废率将很高。光刻机中有100,000多个零件,每个零件必须使用最好的产品。如果纯国产光刻机要与ASML的ASML竞争,则有必要将世界顶级产品的制造商集中在中国。这在几年或几十年之内是不可能的。

上海微电子和荷兰ASML都是系统集成商。大多数关键组件来自第三方公司,它们并不完全由自己生产。 ASML(荷兰最先进的EUV光刻机)的90%关键零件都需要进口。其中,测量设备和光源来自美国,透镜和精密仪器来自德国,轴承来自瑞典。但是,这些精密仪器和附件已被我国禁运,也就是说,上海微电子需要等待国内供应链的成熟来制造28纳米光刻机。上海微电子的28nm光刻机的突破来自于中国背后强大的半导体产业链供应商,其中包括北京可可宏的光源系统,国旺光学的镜头,华卓晶科的浸入式双工作台,浙江奇尔机电浸入系统等。外界对我国的封锁,我们只能突破分工合作的局面。 ASML的EUV光刻机具有100,000个零件,并且多个系统可以一起工作。实际上,这也证明我们需要专注于技术并集中全部精力来获得专业知识。只有这样,才能更快地建立或改善我们的半导体产业链。

根据中芯国际最近发布的招股说明书,中芯国际表示,由于该公司的某些半导体设备和技术来自美国,因此,除非获得美国商务部的批准,否则无法为某些客户生产产品。明确地说,中芯国际在某些技术水平上也受到美国的限制。我之前也曾说过,中芯国际目前可以生产14nm手机芯片,其中可能包含西方技术。并且将不可能为许多客户生产产品。华为很有可能是这种情况。无疑,这将增加我国光刻机的发展。

即使采用国产的28纳米工艺光刻机,华为要打破美国在高端手机芯片生产领域的封锁仍然是不现实的。从现在开始,华为的高端手机业务将被美国的封锁所笼罩。华为想要打破美国的封锁,需要的是整改中国制造业产业链的支持,而不是只是一个28纳米的光刻机就能够解决的事情。

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